ICP-98A型高密度等离子体刻蚀机是一种刻蚀速率高,加工精度高,损伤小的新一代先进刻蚀机。它是“九五”国家重点科技攻关项目“高密度等离子体刻蚀技术的研究”的成果。它由一组大功率的射频激励电源通过感应耦合在反应室内产生高密度等离子体,而由另一组功率较小的偏压电源引导离子垂直于被刻蚀物体运动,从而达到各向异性和告诉地损伤刻蚀的目的:还可用于百微米级的MEMS Si深刻蚀和W的刻蚀。该机适用于科研和小规模生产。用F基气体可刻蚀Si、Poly-Si、SiC、Si3N4 、SiO2、W、WSi、Mo、MoSi、Ta、TaSi、石英等。用O2还可以去胶。该机已售往北京、上海、杭州、苏州、香港、南京、西安、成都、深圳等地几十所高校、科研单位及高科技公司,得到用户的一致好评。




配置及性能指标

1.基理电源:13.56MHz,1500W,带自动匹配器和功率计一台;

2.偏压电源:500W,带匹配器和功率计,带定时器一台;

3.真空系统:620升/秒分子泵、8升/秒机械泵个一台,带真空计;

4.反应腔尺寸:Φ300mm;

5.气路系统:6路进气(其中两路可做清洗),4个质量流量计,4路显示;

6.可加工片子尺寸:4英寸及小片

7.均匀性:±5%(4英寸硅片内)

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